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半导体工艺制作,如ICP、RIE刻蚀,磁控溅射、电子束蒸发做电极
北京
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需求标题
半导体工艺制作,如ICP、RIE刻蚀,磁控溅射、电子束蒸发做电极
需求描述
半导体工艺制作,如ICP、RIE刻蚀,磁控溅射、电子束蒸发做电极
预算金额
¥1000元
允许参与人才数量
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人才所在地
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人才类型
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工作反馈要求
无要求
期望完成日期
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开票类型要求
无要求